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ag体育正规_1.2亿美元一台的光刻机被中国员工窃密?ASML总裁都忍不住回应
2020-11-01 [78820]

【ag体育正规】最近,一些外国媒体报道称,中国员工窃取了荷兰公司ASML Holding N.V .的商业秘密,并将其泄露给中国政府。ASML是SMIC以1.2亿美元出售的EUV光刻机的卖家,这是SMIC 2017年的总净利润。“ASML中国员工窃取机密”事件也引起了半导体行业的广泛关注。图片来源于ASML官网(微信官方账号:)的涉密盗窃事件总结。

据悉,这一消息来自荷兰当地媒体(Financieele Dagblad),该媒体报道称,数名中国员工窃取了ASML美国子公司的商业机密,导致ASML损失数亿美元。据有关报道,这些中国员工是ASML R&D部门的员工,有权访问美国ASML圣何塞分公司的内部网络。他们利用职务之便,窃取了源代码、软件、公司定价策略和内部使用的设备手册,并将信息发送给ASML的竞争对手XTAL公司。

那么,XTAL知道窃取ASML商业机密吗?至少从法院的判决来看,显然是这样的。2018年11月,ASML以“伪造商ag体育注册业秘密”为由起诉XTAL。法院裁定XTAL必须在1月份向ASML支付2.33亿美元的赔偿,但一个月后XTAL破产。

XTAL于2014年在美国硅谷正式成立。虽然正式成立比ASML晚了十几年,但由于ASML的市场主导地位,客户仍然希望几家公司同时竞争。

比如三星是XTAL的客户,但XTAL似乎没有突破ASML的技术和特殊商业壁垒。在4月11日外交部发言人鲁抗主持的例行记者会上,有记者问:“一家荷兰金融媒体报道称,荷兰半导体行业ASML公司的中国高管窃取了该公司的商业机密,给该公司造成了巨大损失。另一方面,这些技术被泄露给了中国政府。

中国是否被告知此事?你对回应有何评论?”鲁抗:我们注意到了相关报道,但不了解你提到的具体情况。从本质上讲,中荷两国在科技领域仍然保持着良好的合作。我们多次表示,中国政府高度重视知识产权保护。

我们始终拒绝华侨公民和企业遵守东道国法律。至于中国本身,中国的科技发展只靠偷,第二靠偷。是中国人用自己的智慧和汗水付出的辛勤劳动。ASML总统的倾听涉及到芯片和大国关系等敏感话题,ASML总统兼首席执行官彼得文尼克首次做出了这一回应。

ASML不同意自己是“中国间谍”的受害者。“说我们可能是国家阴谋的受害者是错误的。

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事实是,我们被硅谷的一小部分员工“偷”走了,他们违反法律“伤害公众,丰富私人”。这一切在几年前又发生了。

我们自己发现了这一点,并在2016年立即在公共法院寻求法律诉讼。我们在2018年11月赢得诉讼后,在几份报告中指出了这一观点,”彼得文宁克(Peter Wennink)表示。根据ASML官方回应,各民族员工盗取的面膜优化软件是ASML产品和服务提供商的一小部分,旨在打造一款有竞争力的产品,销售给韩国现有的ASML客户(应该是三星),XTAL的资本来自韩国。

目前还不确定XTAL公司能在多大程度上返还2.33亿美元的赔偿金,XTAL公司现在已经倒闭。「我们不满意任何有关事件会对ASML在中国的业务造成影响的说法。有些人恰好是中国公民,但是其他国家的人也参加。

显然,我们小心翼翼地保护我们的专有科学知识,并且非常容易受到信息安全的影响。我们坚信,我们可以为包括中国客户在内的所有客户提供服务,并帮助他们创造业务。最近,欧盟和中国之间的建设性谈判和协议使中国能够加强对非中国公司的承认和维护其知识产权,包括执法人员的有效行动。当我们看到这些是在中国法律和审判中构建的,我们给予了极大的鼓励,”文宁说。

根据官方网站上ASML的数据,ASML已经在16个国家的60多个城市设立了办事处,总部位于荷兰维尔德霍芬,拥有2.3万名员工。非ASML不能?“生产需要消费”,ASML在半导体行业的地位是不可替代的。

即使是英特尔、三星和TSMC也不能等待ASML的供应。即使在ASML研发进展缓慢的时候,三大工厂也投入了数十亿美元帮助ASML开发EUV光刻机工艺和18寸晶圆,可见光刻机门槛低。

EUV光刻机透视图(节选自ASML官网)顾名思义,光刻机利用光来雕刻电路。掩模对准器又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。

常用的光刻机是掩模对准光刻,所以叫掩模对准系统。一般的光刻工艺要经过硅片表面清洗浸泡、底部镀膜、再涂光刻胶、软烘烤、对准曝光、后蒸镀、负片、硬烘烤、光刻等工序。光刻就是用光制作一个图案(工艺),集成电路的制作可以详细分为三个步骤:用模板去除晶圆表面的保护膜。

晶片在腐蚀剂中清洗,没有保护膜的部分被腐蚀形成电路。用纯水清洗残留在晶圆表面的杂质。这个过程类似于照片底片。

光线通过镜头讨论胶片上的景物图像,胶片上的感光剂随光线变化。胶片上改变的感光剂通过显影溶液底片和定影形成一个忽略景物或有序颜色的图像。

光刻集成电路的载体从晶圆出来,光学变成了电路。芯片被称为工业用油,光刻机被称为半导体行业的明珠。

目前,ASML已经在业界占据了统治者的位置。一方面高端技术无与伦比,另一方面市场份额很低,背后的尼康和佳能技术落后一两代。

2017年,世界上有294台光刻机和198台ASML机,占市场的68%。就高端EUV光刻机而言,ASML占据100%。物极必反。

2017年,ASML一台EUV机器的平均售价高达1亿欧元,2018年第一季度的售价接近1.2亿欧元。而生产能力有限的EUV光刻机中的EUV指的是波长为13.5nm的极紫外光,普通DUV光刻机用于波长为193nm的浅紫外光。

EUV光刻机可以大大提高半导体技术水平。更重要的是,它是半导体摩尔定律延续的基础。

目前摩尔定律不是芯片设计的问题,只是单纯的材料技术不合格。ASML需要获得更多的仪器和设备,这完全是行业的上游。根据英特尔的计划,EUV光刻机早在2005年就应该投入使用,但这似乎高估了材料科学的可玩性。

EUV波长只有13纳米,光能和破坏性极高。工艺中的所有零件和材料都是对工艺的无限挑战,机械动作误差要以皮秒(百万分之一秒)来衡量。

对于旨在发展国内半导体产业的中国来说,光刻机也是一个必要的突破。2018年底,国家基础科研设备开发项目“超分辨光刻设备开发”29日通过竣工验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨率超过22 nm。双曝光技术集成后,未来还可以用来生产10纳米的芯片。

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